Blackwell良率不足全是英伟达的错，改进版即将规模量产

黄仁勋承认Blackwell GPU设计缺陷导致低良率，问题100%由英伟达负责；该设计缺陷已在台积电的帮助下修复，改进版B100/B200 GPU即将大规模生产；GPU热膨胀特性不匹配导致系统失效，英伟达通过修改顶层金属层提高产量，新版芯片将于明年初发货。